*注：本篇法规已被《两用物项和技术进出口许可证管理办法》（发布日期：2005年12月31日 实施日期：2006年1月1日）废止续(2)
二、核两用品及相关技术出口管制清单所列物项和技术
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┃(一)工业设备 ┃
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┃1、机床及有关技术、软件 ┃
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┃序 │ 商品名称 │ 描述 │ 海关编码 │类┃
┃号 │ │ │ │别┃
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┃1 │滚压成形机床 │1．装有3个或3个以上压辊的(主动的或导向 │84639000.10 │1 ┃
┃ │ │的)； │ │ ┃
┃ │ │2．按照制造厂的技术规格可配备“数控”单元 │ │ ┃
┃ │ │或计算机控制器的； │ │ ┃
┃ │ │说明：包括那些只有一个用来使金属成形的压 │ │ ┃
┃ │ │辊和两个用来支撑芯轴但不直接参加成形过程 │ │ ┃
┃ │ │的辅助压辊的机床。 │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃2 │滚压成形机床用芯│转筒成形用的芯轴，用其制成内径在75毫米(3 │84669400.10 │1 ┃
┃ │轴 │英寸)至400毫米(16英寸)之间的圆柱形转筒。 │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃3 │具有滚压功能的旋│1．装有3个或3个以上压辊的(主动的或导向 │84639000.20 │1 ┃
┃ │压成形机床 │的)；和 │ │ ┃
┃ │ │2．按照制造厂的技术规格可配备“数控”单元 │ │ ┃
┃ │ │或计算机控制器的； │ │ ┃
┃ │ │说明：包括那些只有一个用来使金属成形的压 │ │ ┃
┃ │ │辊和两个用来支撑芯轴但不直接参加成形过程 │ │ ┃
┃ │ │的辅助压辊的机床. │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃4 │具有滚压功能的旋│转筒成形用的芯轴，用其制成内径在75毫米(3 │84669400.20 │1 ┃
┃ │压成形机床用芯轴│英寸)至400毫米(16英寸)之间的圆柱形转筒. │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃5 │用于切削或切割金│对于加工件大于直径35毫米的车床，“定位精 │ │2 ┃
┃ │属、陶瓷或复合材│度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线坐标 │ │ ┃
┃ │料，根据制造厂的│可达到优于0.006毫米(总定位精度)。 │ │ ┃
┃ │技术说明书，可以│说明：不包括仅加工贯穿进给的棒料，棒料最 │ │ ┃
┃ │配备沿2个或更多 │大直径等于或小于42毫米，并且无固定卡盘的 │ │ ┃
┃ │个轴同时进行“ │棒料车床。车床可对直径小于42毫米的加工零 │ │ ┃
┃ │成形控制”的电子│件进行钻、铣加工。 │ │ ┃
┃ │装置的车床 │ │ │ ┃
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┃6 │用于切削或切割金│这些铣床具有下述任何一种特性： │ │2 ┃
┃ │属、陶瓷或复合材│（1）“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿 │ │ ┃
┃ │料，根据制造厂的│任一直线座标可达到优于0. 006毫米(总定位 │ │ ┃
┃ │技术说明书，可以│精度)；或 │ │ ┃
┃ │配备沿2个或更多 │（2）有2个或更多个成形旋转轴。 │ │ ┃
┃ │个轴同时进行“成│说明：本条目不管制具有下述特性的铣床： │ │ ┃
┃ │形控制”的电子装│A. ×轴行程大于2米；和 │ │ ┃
┃ │置的铣床 │B. 沿×轴的总“定位精度”劣于0. 030毫米。 │ │ ┃
┃ │ │ │ │ ┃
┃ │ │ │ │ ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃7 │用于切削或切割金│这些磨床具有下述任何一种特性： │ │2 ┃
┃ │属、陶瓷或复合材│（1）“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿 │ │ ┃
┃ │料，根据制造厂的│任一直线坐标可达到优于0. 004毫米(总定位 │ │ ┃
┃ │技术说明书，可以│精度)；或 │ │ ┃
┃ │配备沿2个或更多 │（2）有2个或更多个成形旋转轴。 │ │ ┃
┃ │个轴同时进行“成│说明：不包括下列磨床： │ │ ┃
┃ │形控制”的电子装│A. 具有下列所有特征的外圆、内圆和内外圆 │ │ ┃
┃ │置的磨床 │磨床： │ │ ┃
┃ │ │－－限于磨圆柱面； │ │ ┃
┃ │ │－－最大工件外径或长度为150毫米； │ │ ┃
┃ │ │－－能同时调整进行“成形控制”的轴不超过2 │ │ ┃
┃ │ │个；和 │ │ ┃
┃ │ │－－无成形c轴。 │ │ ┃
┃ │ │B. 仅有x、y、c和 a轴的坐标磨床，其中c轴 │ │ ┃
┃ │ │用于保持磨轮垂直于工件表面，配备a轴是为 │ │ ┃
┃ │ │了磨筒形凸轮。 │ │ ┃
┃ │ │C. 带有为生产工具和刀具专门设计的软件的 │ │ ┃
┃ │ │工具磨床或刀具磨床。 │ │ ┃
┃ │ │D. 曲轴磨床或凸轮轴磨床。 │ │ ┃
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┃8 │用于切削或切割金│具有2个或更多个成形旋转轴并能同时调整进 │ │2 ┃
┃ │属、陶瓷或复合材│行“成形控制”。 │ │ ┃
┃ │料，根据制造厂的│ │ │ ┃
┃ │技术说明书，可以│ │ │ ┃
┃ │配备沿2个或更多 │ │ │ ┃
┃ │个轴同时进行“成│ │ │ ┃
┃ │形控制”的电子装│ │ │ ┃
┃ │置的无线型放电加│ │ │ ┃
┃ │工机床 │ │ │ ┃
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┃9 │为滚压成形机床和│ │ │2 ┃
┃ │具有滚压功能的旋│ │ │ ┃
┃ │压成形机床和芯轴│ │ │ ┃
┃ │专门设计的软件 │ │ │ ┃
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┃10 │为“研制”、“生│说明： │ │2 ┃
┃ │产”或“使用”核│（1）不管是单独出口的还是装在“数控”单元 │ │ ┃
┃ │两用品及相关技术│或任何电子装置或系统中的软件都要受到管 │ │ ┃
┃ │出口管制清单第一│制。 │ │ ┃
┃ │部分的“数控”单│（2）控制单元或机床的制造厂专门为操作非 │ │ ┃
┃ │元、“数控”机床│受控机床而设计或修改的软件不受管制。 │ │ ┃
┃ │而专门设计或修改│ │ │ ┃
┃ │的软件。 │ │ │ ┃
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┃11 │供电子装置或系统│使该装置起“数控”单元的作用，从而能控制5 │ │2 ┃
┃ │的任一组合使用的│个或更多个能同时调整进行“成形控制”的内插 │ │ ┃
┃ │软件 │轴。 │ │ ┃
┃ │ │说明： │ │ ┃
┃ │ │（1）不管是单独出口的还是装在“数控”单元 │ │ ┃
┃ │ │或任何电子装置或系统中的软件都要受到管 │ │ ┃
┃ │ │制。 │ │ ┃
┃ │ │（2）控制单元或机床的制造厂专门为操作非 │ │ ┃
┃ │ │受控机床而设计或修改的软件不受管制。 │ │ ┃
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┃2、尺寸检测仪、装置或系统，以及为此专门设计的软件： ┃
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┃12 │计算机控制的尺寸│具有下述两种特性的计算机控制的尺寸检测仪 │ │2 ┃
┃ │检测仪或数控的尺│或数控的尺寸检测机： │ │ ┃
┃ │寸检测机： │1．有2个或更多个轴；和 │ │ ┃
┃ │ │2．使用“精度”优于0.2微米的探头检测时，一 │ │ ┃
┃ │ │维长度的“测量误差”等于或小于(1.25+L/ │ │ ┃
┃ │ │1000)微米(L是所测长度，单位：毫米) │ │ ┃
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┃13 │长度测量仪 │具有下述任何一种特性的长度测量仪： │ │2 ┃
┃ │ │（1）非接触型测量系统，测量范围不超过0.2 │ │ ┃
┃ │ │毫米时，其“分辨率”等于或优于0.3微米； │ │ ┃
┃ │ │（3）具有下述两种特性的线性可变差动变压 │ │ ┃
┃ │ │器系统： │ │ ┃
┃ │ │A. 测量范围不超过5毫米时，其“线性度”等于 │ │ ┃
┃ │ │或优于0.2%；和 │ │ ┃
┃ │ │B. 在标准环境试验室温度变化为1.1K时，每 │ │ ┃
┃ │ │天漂移量等于或小于0.2%；或 │ │ ┃
┃ │ │（4）具有下述两种特性的测量系统： │ │ ┃
┃ │ │A. 装有“激光器”； │ │ ┃
┃ │ │B. 在温度变化为11K的标准温度和标准压力 │ │ ┃
┃ │ │下，保持至少13小时： │ │ ┃
┃ │ │全量程的“分辨率”为0.2微米或更高；和 │ │ ┃
┃ │ │“测量误差”等于或小于(0.2+L/2001) 微米 │ │ ┃
┃ │ │(L是所测长度，单位：毫米)；以下除外：用 │ │ ┃
┃ │ │干涉仪系统测量，无闭环或开环反馈，装有“ │ │ ┃
┃ │ │激光器”，用以测量机床、尺寸检验仪或相似 │ │ ┃
┃ │ │设备的滑板运动误差 │ │ ┃
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┃14 │角度测量仪 │其“角位偏差”等于或小于0.00025度。 │ │2 ┃
┃ │ │说明：不管制诸如自动准直仪之类的光学仪 │ │ ┃
┃ │ │器，例如使用平行光检测反射镜角位移的自动 │ │ ┃
┃ │ │准直仪。 │ │ ┃
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┃15 │检查半壳件的线－│具有下述两种特性的同时检查半壳件的线－角 │ │2 ┃
┃ │角度位移的系统 │度位移的系统： │ │ ┃
┃ │ │1．沿任一轴向线度的“测量误差”，每毫米等 │ │ ┃
┃ │ │于或小于3. 6微米；和 │ │ ┃
┃ │ │2．“角位偏差”等于或小于0.03度。 │ │ ┃
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┃16 │为尺寸检测仪、装│为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分 │ │2 ┃
┃ │置或系统专门设计│尺寸检测仪、装置或系统专门设计的软件（包 │ │ ┃
┃ │的软件 │括用于同时测量壁厚和轮廓的软件） │ │ ┃
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┃17 │“机器人”或“末│（一）按照国家安全标准专门设计，能用于处 │84795090.10 │1 ┃
┃ │端操纵装置” │理高能炸药(例如，满足高能炸药电气法规标 │ │ ┃
┃ │ │称值)；或 │ │ ┃
┃ │ │（二）专门设计或定为抗辐射的，能经受大于 │ │ ┃
┃ │ │5W104戈瑞(硅) [5W106拉德(硅)]辐射而不会 │ │ ┃
┃ │ │降低使用性能 │ │ ┃
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┃18 │为“机器人”或“│为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分 │ │2 ┃
┃ │末端操纵装置”专│所述的“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的│ │ ┃
┃ │门设计的控制器 │控制器 │ │ ┃
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┃19 │为“机器人”或“│为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分 │ │2 ┃
┃ │末端操纵装置”专│所述的“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的│ │ ┃
┃ │门设计的软件 │软件 │ │ ┃
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┃3、振动试验系统、设备、部件及其软件 ┃
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┃20 │使用反馈或闭环控│能在20赫兹至2000赫兹之间产生10克均方根或 │ │2 ┃
┃ │制技术和数控装置│更大的振动，并施加50千牛(11250磅)(“空台” │ │ ┃
┃ │的电动式振动试验│测量)或更大的力。 │ │ ┃
┃ │系统 │ │ │ ┃
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┃21 │数字控制器 │装有为振动试验专门设计的软件，实时频宽大 │ │2 ┃
┃ │ │于5千赫，同“使用反馈或闭环控制技术和数控 │ │ ┃
┃ │ │装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统 │ │ ┃
┃ │ │一起使用。 │ │ ┃
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┃22 │振动启动器（振动│装有或不装有辅助放大器，能施加50千牛 │ │2 ┃
┃ │装置） │(11250磅)(“空台”测量)或更大的力，可用于“ │ │ ┃
┃ │ │使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式 │ │ ┃
┃ │ │振动试验系统”所述的受控系统。 │ │ ┃
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┃23 │试验部件支承结构│用来把多台振动装置联成一完整的振动器系 │ │2 ┃
┃ │和电子学装置 │统，以便能提供50千牛(“空台”测量)或更大的 │ │ ┃
┃ │ │有效合力，可用于“使用反馈或闭环控制技术 │ │ ┃
┃ │ │和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受 │ │ ┃
┃ │ │控系统。 │ │ ┃
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┃24 │受控电子学装置专│同“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电 │ │2 ┃
┃ │门设计的软件 │动式振动试验系统”所述的受控系统一起使用 │ │ ┃
┃ │ │或为“试验部件支承结构和电子学装置”所述的 │ │ ┃
┃ │ │受控电子学装置专门设计的软件 │ │ ┃
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┃4、真空炉、受控气氛冶金熔化炉和铸造用炉；专门配置的计算机控制系统和监测系统以 ┃
┃及为此专门设计的软件 ┃
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┃25 │电弧重熔炉和铸造│容量在1000－20000立方厘米之间，使用自耗电 │85143000.20 │1 ┃
┃ │用炉 │极，能在1700以上的熔化温度工作 │ │ ┃
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┃26 │电子束熔化炉 │功率=50千瓦，能在＞1200的熔化温度工作 │85143000.30 │1 ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃27 │等离子体雾化和熔│功率=50千瓦，能在＞1200的熔化温度工作 │85143000.40 │1 ┃
┃ │化炉 │ │ │ ┃
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┃28 │为真空炉、受控气│为核两用品及相关技术出口管制清单所述的真 │ │2 ┃
┃ │氛冶金熔化炉和铸│空炉、受控气氛冶金熔化炉和铸造用炉专门配 │ │ ┃
┃ │造用炉专门配置的│置的计算机控制系统和监测系统 │ │ ┃
┃ │计算机控制系统和│ │ │ ┃
┃ │监测系统 │ │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃29 │为真空炉、受控气│为核两用品及相关技术出口管制清单所述的真 │ │2 ┃
┃ │氛冶金熔化炉和铸│空炉、受控气氛冶金熔化炉和铸造用炉专门配 │ │ ┃
┃ │造用炉专门配置计│置计算机控制系统和监测系统专门设计的软件 │ │ ┃
┃ │算机控制系统和监│ │ │ ┃
┃ │测系统专门设计的│ │ │ ┃
┃ │软件 │ │ │ ┃
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┃30 │真空感应炉或受控│工作温度＞850，感应线圈直径=600mm，设计 │85142000.10 │1 ┃
┃ │环境感应炉 │输入功率=5千瓦 │ │ ┃
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┃31 │电源 │真空感应炉或受控环境感应炉用电源，额定输 │85044090.50 │1 ┃
┃ │ │出功率=5千瓦 │ │ ┃
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┃32 │等静压压力机 │最大工作压力能够达到69兆帕或更大并具有内 │ │2 ┃
┃ │ │径超过152毫米腔式的“等静压压力机” │ │ ┃
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┃33 │为等静压压力机专│为核两用品及相关技术出口管制清单所述的等 │ │2 ┃
┃ │门设计的模具及模│静压压力机专门设计的模具及模型 │ │ ┃
┃ │型 │ │ │ ┃
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┃34 │为等静压压力机专│为核两用品及相关技术出口管制清单所述的等 │ │2 ┃
┃ │门设计的控制器 │静压压力机专门设计的控制器 │ │ ┃
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┃35 │为等静压压力机专│为核两用品及相关技术出口管制清单所述的等 │ │2 ┃
┃ │门设计的控制器专│静压压力机专门设计的控制器专门设计的软件 │ │ ┃
┃ │门设计的软件 │ │ │ ┃
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┃（二）材料 ┃
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┃36 │铝合金 │在293K(20摄氏度)时的极限抗拉强度能达到 │ │2 ┃
┃ │ │460兆帕(0.46W109 │ │ ┃
┃ │ │牛顿／平方米)或更大，呈管状或柱形实心体 │ │ ┃
┃ │ │(包括锻件)，外径超过75毫米(3英寸)。 │ │ ┃
┃ │ │技术说明：所述的“能达到”包括未经热处理的 │ │ ┃
┃ │ │或经热处理的铝合金在内。 │ │ ┃
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┃37 │铍金属 │含50%以上铍(按重量计)的铍合金，铍的化合 │ │2 ┃
┃ │ │物，以及除下述制品以外的铍制品： │ │ ┃
┃ │ │（一）X射线机或钻孔测井装置的金属窗； │ │ ┃
┃ │ │（二）专门为电子部件设计的或作为电子线路 │ │ ┃
┃ │ │基片的氧化铍产品或半成品； │ │ ┃
┃ │ │（三）绿宝石或海蓝宝石形式的绿柱石(铍和 │ │ ┃
┃ │ │铝的硅化物)。 │ │ ┃
┃ │ │技术说明：本清单包括上述铍的废物和废料。 │ │ ┃
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┃38 │高纯(99.99％或更│ │ │2 ┃
┃ │高)铋，其含银量 │ │ │ ┃
┃ │低于十万分之一 │ │ │ ┃
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┃39 │硼-10同位素占硼 │ │28459000.20 │1 ┃
┃ │总含量20%以上(按│ │ │ ┃
┃ │重量计)的硼及其 │ │ │ ┃
┃ │化合物、混合物和│ │ │ ┃
┃ │含硼材料 │ │ │ ┃
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┃40 │钙(高纯度) │金属杂质(除镁外)含量＜1 (按重量计)，硼含 │28051200.10 │1 ┃
┃ │ │量小于十万分之一。 │ │ ┃
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┃41 │三氟化氯 │ │28129000.10 │1 ┃
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┃42 │容积在150毫升至8│容积在150毫升至8升之间、用纯度为99％或更 │ │2 ┃
┃ │升之间、用纯度为│高的下述任何一种材料制造或作涂层的坩埚： │ │ ┃
┃ │98％或更高的下述│钙； │ │ ┃
┃ │任何一种材料制造│锆酸钙(偏锆酸盐)； │ │ ┃
┃ │或作涂层的坩埚 │硫化铈； │ │ ┃
┃ │ │氧化铒； │ │ ┃
┃ │ │氧化铪； │ │ ┃
┃ │ │氧化镁； │ │ ┃
┃ │ │氮化铌－钛－钨合金(约50％铌、30％钛和21 │ │ ┃
┃ │ │％钨)； │ │ ┃
┃ │ │氧化钇； │ │ ┃
┃ │ │氧化锆。 │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃43 │容积在50毫升至2 │ │ │2 ┃
┃ │升之间、用纯度为│ │ │ ┃
┃ │99.9％或更高的钽│ │ │ ┃
┃ │制造的坩埚 │ │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃44 │容积在50毫升至2 │ │ │2 ┃
┃ │升之间、用纯度为│ │ │ ┃
┃ │98％或更高的钽制│ │ │ ┃
┃ │造的坩埚 │ │ │ ┃
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┃45 │芳族聚酰氨纤维或│碳或其“比模量”为12.7W106米或更大或“比抗 │ │2 ┃
┃ │纤丝材料 │拉强度”为23.5W104米或更大的芳族聚酰氨纤 │ │ ┃
┃ │ │维或纤丝材料，含有0.26％(重量)或更多酯基 │ │ ┃
┃ │ │纤维表面改性剂的除外 │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃46 │玻璃纤维或纤丝材│其“比模量”为3.18W106米或更大和“比抗拉强 │ │2 ┃
┃ │料 │度”为7.62W105米或更大的玻璃纤维或纤丝材 │ │ ┃
┃ │ │料 │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃47 │用碳或玻璃纤维或│用核两用品及相关技术出口管制清单所述碳或 │ │2 ┃
┃ │纤丝材料制成并浸│玻璃纤维或纤丝材料制成并浸渍了热固性树脂 │ │ ┃
┃ │渍了热固性树脂的│的连续的细线、粗纱、纱或宽度不超过16毫米 │ │ ┃
┃ │连续的细线、粗纱│的带(预浸料坯)； │ │ ┃
┃ │、纱或宽度不超过│说明：树脂构成了复合材料的基体。 │ │ ┃
┃ │15毫米的带(预浸 │ │ │ ┃
┃ │料坯)； │ │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃48 │碳纤维浸渍树脂材│内径在75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)之 │ │2 ┃
┃ │料制造的管状复合│间、用任何一种上述第45项所述的纤维或纤丝 │ │ ┃
┃ │结构。 │材料或上述第48项所述碳纤维浸渍树脂材料制 │ │ ┃
┃ │ │造的管状复合结构。 │ │ ┃
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┃49 │金属铪 │ │ │2 ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃50 │铪合金 │ │ │2 ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃51 │铪含量超过60％( │ │ │2 ┃
┃ │按重量计)的铪化 │ │ │ ┃
┃ │合物及铪制品 │ │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃52 │富集锂－6同位素 │“富集锂－6同位素”即锂－6同位素富集度大于 │28459000.30 │1 ┃
┃ │及其合金、化合物│7.5％(按原子数计)。 │ │ ┃
┃ │或混合物 │ │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃53 │含有上述第52项所│ │ │2 ┃
┃ │述任何物质的产品│ │ │ ┃
┃ │或装置（不包括热│ │ │ ┃
┃ │释光剂量计）。 │ │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃54 │镁(高纯度) │金属杂质(除钙外)含量少于万分之二(按重量 │ │2 ┃
┃ │ │计)，含硼量少于十万分之一。 │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃55 │马氏体时效钢 │在293K(20摄氏度)下极限抗拉强度能达到2050 │ │2 ┃
┃ │ │兆帕(2.050W109牛顿／平方米)(300000磅／平 │ │ ┃
┃ │ │方英寸)或更大的马氏体时效钢，但不包括线 │ │ ┃
┃ │ │性尺寸小于76毫米的马氏体时效钢。 │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃56 │镭－226及其化合 │ │28444010.10 │1 ┃
┃ │物 │ │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃57 │含镭－226的混合 │ │ │2 ┃
┃ │物 │ │ │ ┃
┠──┼────────┼──────────────────────┼──────┼─┨
┃58 │含有镭－226、镭 │含有镭－226、镭－226化合物或含镭－227的 │ │2 ┃
┃ │－226化合物或含 │混合物的任何物质的产品或装置 │ │ ┃
┃ │镭－226的混合物 │不包括： │ │ ┃
┃ │的任何物质的产品│（一）医用施镭器； │ │ ┃
┃ │或装置 │（二）含有不超过0.37吉贝可(10毫居)任何形 │ │ ┃
┃ │ │式镭－227的产品或装置。 │ │ ┃
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┃59 │钛合金管 │在293K(20摄氏度)下极限抗拉强度能达到900 │81089040.10 │1 ┃
┃ │ │兆帕(0. 9W109牛顿/平方米)，外径＞75mm │ │ ┃
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┃60 │钛合金实心圆柱体│在293K(20摄氏度)下极限抗拉强度能达到900 │81089010.10 │1 ┃
┃ │(包括锻件) │兆帕(0. 9W109牛顿/平方米)(130500磅/平方 │ │ ┃
┃ │ │英寸)或更大的钛合金呈管状或实心圆柱体(包 │ │ ┃
┃ │ │括锻件)，外径超过75毫米(3英寸) │ │ ┃
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┃61 │钨制部件，碳化钨│钨制部件，碳化钨或重量超过20千克、内径大 │ │2 ┃
┃ │或重量超过20千克│于100毫米(4英寸)小于300毫米(12英寸)的空 │ │ ┃
┃ │、内径大于100毫 │心圆柱形对称体(包括圆柱体扇形段)的钨合金 │ │ ┃
┃ │米(4英寸)小于300│(含钨量超过91％)； │ │ ┃
┃ │毫米(12英寸)的空│不包括为配重或 │ │ ┃
┃ │心圆柱形对称体( │g射线准直仪专门设计的钨部件。 │ │ ┃
┃ │包括圆柱体扇形段│ │ │ ┃
┃ │)的钨合金(含钨量│ │ │ ┃
┃ │超过90％)； │ │ │ ┃
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┃62 │铪与锆含量之比小│ │ │2 ┃
┃ │于500分之一(按重│ │ │ ┃
┃ │量计)的金属锆 │ │ │ ┃
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┃63 │含50％以上锆(按 │含50％以上锆(按重量计)的合金，化合物，及 │ │2 ┃
┃ │重量计)的合金， │其制品，但不包括厚度不超过0.1毫米(0.005 │ │ ┃
┃ │化合物，及其制品│英寸)的锆箔。 │ │ ┃
┃ │ │技术说明：此条目管制适用于含上述各种锆的 │ │ ┃
┃ │ │废物和废料。 │ │ ┃
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┃64 │镍纯度为99. 0％ │镍纯度为99. 0％或更高，平均粒度按标准测 │75040010 │1 ┃
┃ │或更高，平均粒度│量小于11微米的粉末；不包括细丝状镍粉； │ │ ┃
┃ │按标准测量小于10│ │ │ ┃
┃ │微米的粉末 │ │ │ ┃
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┃65 │由上述64项管制的│由上述64项管制的材料生产的多孔镍金属；不 │ │2 ┃
┃ │材料生产的多孔镍│包括每块不超过1001平方厘米的单孔镍金属 │ │ ┃
┃ │金属 │板。 │ │ ┃
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┃（三）同位素分离设备和部件 ┃
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┃66 │每小时产250克以 │ │ │2 ┃
┃ │上氟的电解槽 │ │ │ ┃
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┃67 │装配气体离心机转│ │ │2 ┃
┃ │筒管件、挡板和端│ │ │ ┃
┃ │盖的转筒装配设备│ │ │ ┃
┃ │。这类设备包括精│ │ │ ┃
┃ │密芯轴、夹钳和缩│ │ │ ┃
┃ │机具 │ │ │ ┃
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┃68 │使气体离心机转筒│通常是由连接计算机的精密测量探头组成，该 │ │2 ┃
┃ │管件对准共用轴的│计算机随后控制诸如用于对准转筒管件的气动 │ │ ┃
┃ │转筒矫直设备 │活塞的动作。 │ │ ┃
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┃69 │生产单曲面波纹管│波纹管是用高强度铝合金、马氏体时效钢或高 │ │2 ┃
┃ │用的波纹管成形芯│强度纤维材料制造，波纹管的尺寸如下： │ │ ┃
┃ │轴和模具 │(1)．内径为75毫米(3英寸)至400毫米(16英 │ │ ┃
┃ │ │寸)； │ │ ┃
┃ │ │(2)．长度为12. 7毫米(0. 5英寸)或更长；和 │ │ ┃
┃ │ │(3)．单曲面深度超过2毫米(0. 08英寸)。 │ │ ┃
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┃70 │用于长度为600毫 │用于长度为601毫米或更长的柔性转筒的平衡 │ │2 ┃
┃ │米或更长的柔性转│并具有如下特性的离心平衡机： │ │ ┃
┃ │筒的平衡并具有如│1．摆幅或轴颈直径为76毫米或更大； │ │ ┃
┃ │下特性的离心平衡│2.质量容量从0.9至23千克(2至51磅)；和 │ │ ┃
┃ │机 │3．平衡的旋转速度能够超过5001转／分。 │ │ ┃
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┃71 │用于空心圆柱形转│用于空心圆柱形转筒部件的平衡并具有如下特 │ │2 ┃
┃ │筒部件的平衡并具│性的离心平衡机： │ │ ┃
┃ │有如下特性的离心│轴颈直径为76毫米或更大； │ │ ┃
┃ │平衡机 │质量容量从0.9至23千克(2至51磅)； │ │ ┃
┃ │ │通过平衡补偿能使剩余的不平衡仅为每个平面 │ │ ┃
┃ │ │0. 011千克毫米/千克或更小；和皮带传动 │ │ ┃
┃ │ │型。 │ │ ┃
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┃72 │绕线机 │其定位、缠绕和卷绕纤维的动作可在2个或更 │84798990.60 │1 ┃
┃ │ │多个轴线上进行调节和编制程序，专门设计用 │ │ ┃
┃ │ │于制造纤维和纤丝材料的复合结构或铺层制 │ │ ┃
┃ │ │品，并能够卷绕直径在75毫米(3英寸)至400毫 │ │ ┃
┃ │ │米(16英寸)之间、长度为600毫米（24英寸） │ │ ┃
┃ │ │或更长的圆柱形转筒 │ │ ┃
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┃73 │调节和编程控制器│专门设计用于制造纤维和纤丝材料的复合结构 │85371010.20 │1 ┃
┃ │ │或铺层制品，并能够卷绕直径在75毫米(3英 │ │ ┃
┃ │ │寸)至400毫米(16英寸)之间、长度为600毫米 │ │ ┃
┃ │ │（24英寸）或更长的圆柱形转筒绕线机的调节 │ │ ┃
┃ │ │和编程控制器 │ │ ┃
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┃74 │上述第72项绕线机│ │ │2 ┃
┃ │的精密芯轴 │ │ │ ┃
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┃75 │为上述72项所述绕│ │ │2 ┃
┃ │线机专门设计的软│ │ │ ┃
┃ │件 │ │ │ ┃
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┃76 │频率变换器(亦就 │具有下述特性： │85044090.40 │1 ┃
┃ │是通常所称的变频│（一）能提供40瓦特或更高功率的多相输出； │ │ ┃
┃ │器或逆变器) │（二）能在600至2000赫兹频率范围内工作； │ │ ┃
┃ │ │（三）总的谐波畸变低于10％；和 │ │ ┃
┃ │ │（四）频率控制精度优于0.1％。 │ │ ┃
┃ │ │不包括专门为“电动机定子”设计或配备的并 │ │ ┃
┃ │ │具有上述（二）和（四）特性，总谐波畸变低 │ │ ┃
┃ │ │于2％和效率超过80％的变频机。 │ │ ┃
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┃77 │发电机 │（一）能提供40瓦特或更高功率的多相输出； │85015100.10 │1 ┃
┃ │ │（二）能在600至2000赫兹频率范围内工作； │ │ ┃
┃ │ │（三）总的谐波畸变低于10％；和 │ │ ┃
┃ │ │（四）频率控制精度优于0. 1％。不包括专门 │ │ ┃
┃ │ │为“电动机定子”设计或配备的并具有上述 │ │ ┃
┃ │ │（二）和（四）特性，总谐波畸变低于2％和 │ │ ┃
┃ │ │效率超过80％的变频机。 │ │ ┃
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┃78 │铜蒸气激光器 │平均输出功率=40瓦特、工作波长500纳米600 │90132000.70 │1 ┃
┃ │ │纳米 │ │ ┃
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┃79 │氩离子激光器 │平均输出功率=40瓦特、工作波长400纳米515 │90132000.30 │1 ┃
┃ │ │纳米 │ │ ┃
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┃80 │掺钕激光器(而不 │(1)．具有1000纳米至1100纳米的输出波长， │ │2 ┃
┃ │是玻璃激光器) │采用脉冲激发和Q-开关，其脉冲宽度等于 │ │ ┃
┃ │ │或大于1纳秒，并具有下述任何一种特性： │ │ ┃
┃ │ │（A）单横模输出，平均输出功率超过40瓦 │ │ ┃
┃ │ │特； │ │ ┃
┃ │ │（B）多横模输出，平均输出功率超过50瓦 │ │ ┃
┃ │ │特； │ │ ┃
┃ │ │(2)．工作波长在1000纳米至1100纳米之间， │ │ ┃
┃ │ │倍频后，输出波长在500纳米至550纳米之间， │ │ ┃
┃ │ │倍频(新波长)平均功率超过40瓦特 │ │ ┃
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┃81 │可调脉冲单模染料│平均输出功率超过l瓦特，重复率超过1千赫， │ │2 ┃
┃ │振荡器 │脉冲宽度小于100纳秒，波长在300纳米至800 │ │ ┃
┃ │ │纳米之间 │ │ ┃
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┃82 │可调脉冲染料激光│平均输出功率超过30瓦特，重复率超过1千赫 │ │2 ┃
┃ │放大器和振荡器( │兹，脉冲宽度小于100纳秒，波长在300纳米至 │ │ ┃
┃ │不包括单模振荡器│800纳米之间 │ │ ┃
┃ │) │ │ │ ┃
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┃83 │紫翠玉激光器 │带宽=0.005纳米，重复率＞125赫兹，平均输 │90132000.40 │1 ┃
┃ │ │出功率＞30瓦特，工作波长720纳米800纳米 │ │ ┃
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┃84 │脉冲二氧化碳激光│重复率＞250赫兹，平均输出功率＞500瓦特， │90132000.50 │1 ┃
┃ │器 │脉冲宽度＜200纳秒，工作波长9000纳米11000 │ │ ┃
┃ │ │纳米 │ │ ┃
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┃85 │脉冲受激准分子激│重复率＞250赫兹，平均输出功率＞500瓦特， │90132000.60 │1 ┃
┃ │光器(XeF、XeCl和│工作波长240纳米360纳米 │ │ ┃
┃ │KrF) │ │ │ ┃
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┃86 │仲氢喇曼移相器 │设计输出波长为16微米，重复率大于250赫兹 │ │2 ┃
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┃87 │测量230原子质量 │包括： │90278019.20 │1 ┃
┃ │单位或更大的离子│（一）电感耦合等离子体质谱仪； │ │ ┃
┃ │，且分辨率高于2/│（二）辉光放电质谱仪； │ │ ┃
┃ │230的质谱仪 │（三）热电离质谱仪； │ │ ┃
┃ │ │（四）电子轰击质谱仪，其源室是用耐UF6的 │ │ ┃
┃ │ │材料制造，或内衬或涂复这种材料； │ │ ┃
┃ │ │（五）下述两种分子束质谱仪： │ │ ┃
┃ │ │1．源室是用不锈钢或钼制造，或内衬或涂复 │ │ ┃
┃ │ │这种材料，并且冷阱能冷却至193K(-80摄氏 │ │ ┃
┃ │ │度)或更低；或 │ │ ┃
┃ │ │2．源室是用耐UF6的材料制造，或内衬或涂复 │ │ ┃
┃ │ │这种材料；或 │ │ ┃
┃ │ │（六）配备微量氟离子源的质谱仪，设计用于 │ │ ┃
┃ │ │锕系元素或锕系氟化物。 │ │ ┃
┃ │ │不包括专门设计或制造的磁质谱仪或四极质谱 │ │ ┃
┃ │ │仪，这些质谱仪能够从UF6气流中获取供料、 │ │ ┃
┃ │ │产品或尾料的“在线”样品，并具有下述特性： │ │ ┃
┃ │ │分辨本领大于320原子质量单位； │ │ ┃
┃ │ │离子源是用镍铬合金和蒙乃尔(镍铜)合金制造 │ │ ┃
┃ │ │的，或内衬这种材料，或涂镍； │ │ ┃
┃ │ │电子轰击电离源； │ │ ┃
┃ │ │具有适用于同位素分析的收集器系统。 │ │ ┃
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┃88 │测量230原子质量 │ │ │2 ┃
┃ │单位或更大的离子│ │ │ ┃
┃ │，且分辨率高于2/│ │ │ ┃
┃ │230的质谱仪用的 │ │ │ ┃
┃ │离子源 │ │ │ ┃
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┃89 │压力传感器 │能测量在0-13千帕范围内任一绝对压力，并配 │ │2 ┃
┃ │ │备用镍、镍含量大于60％(以重量计)的镍合 │ │ ┃
┃ │ │金、铝或铝合金制造或保护的压敏元件： │ │ ┃
┃ │ │（一）测压小于13千帕(满标度)、精度高于满 │ │ ┃
┃ │ │标度的11％的传感器； │ │ ┃
┃ │ │（二）测压13千帕或高于13千帕(满标度)、精 │ │ ┃
┃ │ │度高于1130帕斯卡的传感器。 │ │ ┃
┃ │ │技术说明： │ │ ┃
┃ │ │1．压力传感器是把压力测量结果转变为电信 │ │ ┃
┃ │ │号的装置。 │ │ ┃
┃ │ │2．为本清单目的，“精度”包括常温下非线性 │ │ ┃
┃ │ │度、滞后量和再现性。 │ │ ┃
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┃90 │测压小于13千帕( │ │ │2 ┃
┃ │满标度)、精度高 │ │ │ ┃
┃ │于满标度的11％ │ │ │ ┃
┃ │的传感器 │ │ │ ┃
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┃91 │测压13千帕或高于│ │ │2 ┃
┃ │13千帕(满标度)、│ │ │ ┃
┃ │精度高于1130 │ │ │ ┃
┃ │帕斯卡的传感器。│ │ │ ┃
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┃92 │阀门 │标称尺寸=5毫米的用波纹管密封，以铝、铝合 │84818010.60 │1 ┃
┃ │ │金、镍或含镍量=60％镍合金制造，或内衬 │ │ ┃
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┃93 │超导螺线电磁体 │（一）能产生超过2个泰斯拉(20千高斯)的磁 │85059000.10 │1 ┃
┃ │ │场； │ │ ┃
┃ │ │（二）长径比(即长度除以内径)超过2； │ │ ┃
┃ │ │（三）内径超过300毫米；和 │ │ ┃
┃ │ │（四）在内空间中心的50％空间内，磁场均匀 │ │ ┃
┃ │ │度优于1％。 │ │ ┃
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┃94 │真空泵 │抽气口尺寸=38厘米，抽气速度=15000升／ │84141000.20 │1 ┃
┃ │ │秒，并能产生＜10-4托的极限真空度。 │ │ ┃
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┃95 │直流高功率电源 │能在8小时内连续产生100伏特或更高的电压， │85044019.20 │1 ┃
┃ │ │输出电流为500安培或更强，电流或电压稳定 │ │ ┃
┃ │ │度优于0.1%。 │ │ ┃
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┃96 │高压直流电源 │能在8小时内连续产生20000伏特或更高的电 │85044019.30 │1 ┃
┃ │ │压，输出电流为1安培或更强，电流或电压 │ │ ┃
┃ │ │稳定度优于0.2％。 │ │ ┃
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┃97 │电磁同位素分离器│设计或配备一个或多个离子源，总的离子束电 │84012000 │1 ┃
┃ │ │流=50毫安 │ │ ┃
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┃（四）重水生产厂的有关设备 ┃
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┃98 │专用填料 │用来从天然水中分离出重水，用磷青铜网制成 │ │2 ┃
┃ │ │(经过化学处理以提高其润湿性)，并设计用于 │ │ ┃
┃ │ │真空蒸馏塔。 │ │ ┃
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┃99 │泵 │用来循环液态氨中被稀释的或被浓缩的钾酰胺 │ │2 ┃
┃ │ │催化剂溶液，并具有下述所有特性： │ │ ┃
┃ │ │气密的(即密封的)； │ │ ┃
┃ │ │用于浓缩的钾酰胺溶液(1％或更高)，工作压 │ │ ┃
┃ │ │力为1.5－60兆帕(15－600个大气压)；用于稀 │ │ ┃
┃ │ │释的钾酰胺溶液(小于1％)，工作压力为20－ │ │ ┃
┃ │ │60兆帕(200－600个大气压)；和容量超过8. 5 │ │ ┃
┃ │ │立方米/小时(5立方英尺／分)。 │ │ ┃
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┃100 │水－硫化氢交换板│板式塔用细晶粒碳钢制成，直径为1. 8米或更 │ │2 ┃
┃ │式塔及其内接触器│大，标准工作压力为2兆帕或更高。 │ │ ┃
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┃101 │氢－低温蒸馏塔 │具有下述全部用途： │84194090.10 │1 ┃
┃ │ │工作时内部温度=-238(35K)；工作时内部压 │ │ ┃
┃ │ │力为0. 5至5兆帕(5至50个大气压)； 用含硫 │ │ ┃
┃ │ │量低的300系列细晶粒不锈钢或等效低温材料 │ │ ┃
┃ │ │和与H2相容的材料制成；和内径=1米，有效 │ │ ┃
┃ │ │长度=5米。 │ │ ┃
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┃102 │氨合成塔或合成氨│其中合成气体(氮和氢)来自氨、氢高压交换 │ │2 ┃
┃ │设备 │塔，而合成氨返回到所述的塔里。 │ │ ┃
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┃103 │涡轮蒸发器或涡轮│工作时温由上述64项管制的材料生产的多孔镍 │ │2 ┃
┃ │蒸发器－压缩机装│金属度在35K以下，氢气通过量为每小时1000 │ │ ┃
┃ │置 │千克或更多。 │ │ ┃
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┃（五）内爆系统研制设备 ┃
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┃104 │闪光X射线发生器 │峰值能量=500千电子伏 │90229090.20 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃105 │脉冲电子加速器 │峰值能量为500千电子伏或更高，但不包括作 │85431900.10 │1 ┃
┃ │ │为非电子束或X射线辐射用(例如电子显微镜) │ │ ┃
┃ │ │和医用装置部件的加速器： │ │ ┃
┃ │ │（一）加速器峰值电子能量为500千电子伏或 │ │ ┃
┃ │ │更高，但低于25兆电子伏，品质因数(K)为0. │ │ ┃
┃ │ │25或更高，这里 K定义为：K＝1.7W103V2. │ │ ┃
┃ │ │65Q。 │ │ ┃
┃ │ │（二）加速器峰值电子能量为25兆电子伏或更 │ │ ┃
┃ │ │高，峰值功率超过50兆瓦[峰值功率＝峰值电 │ │ ┃
┃ │ │位(单位：伏) W电子束峰值电流(单位：安 │ │ ┃
┃ │ │培)]。 │ │ ┃
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┃106 │多级轻气炮 │能够把弹丸加速至每秒2千米或更快。 │ │2 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃107 │线圈炮 │能够把弹丸加速至每秒2千米或更快。 │ │2 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃108 │电磁炮 │能够把弹丸加速至每秒2千米或更快。 │ │2 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃109 │电热炮 │能够把弹丸加速至每秒2千米或更快。 │ │2 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃110 │除上述106-109项 │ │ │2 ┃
┃ │之外的，能够把弹│ │ │ ┃
┃ │丸加速至每秒2千 │ │ │ ┃
┃ │米或更快的先进系│ │ │ ┃
┃ │统 │ │ │ ┃
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┃111 │分幅相机 │记录速率超过每秒225000帧 │90065990.10 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃112 │条纹相机 │书写速度超过每微秒0. 5毫米 │90065990.30 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃113 │电子条纹相机 │时间分辨率为51纳秒或更小 │90065990.40 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃114 │电子条纹相机的条│ │ │2 ┃
┃ │纹显像管 │ │ │ ┃
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┃115 │电子(或电子快门)│帧曝光时间为51纳秒或更短 │90065990.20 │1 ┃
┃ │分幅相机 │ │ │ ┃
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┃116 │受上述115项管制 │包括： │ │2 ┃
┃ │的相机所用的分幅│近聚焦图像增强管，其光电阴极沉积在透明的 │ │ ┃
┃ │显像管和固态成像│导电膜上，以降低光电阴极薄片电阻； │ │ ┃
┃ │器件 │门控硅增强靶视像管，在光电子撞击门控硅增 │ │ ┃
┃ │ │强靶板极之前，有一个快速系统选通从光电阴 │ │ ┃
┃ │ │极发出的光电子； │ │ ┃
┃ │ │克耳盒或普克尔盒电光快门；或 │ │ ┃
┃ │ │专门为上述115项管制的相机设计的其他分幅 │ │ ┃
┃ │ │像管和固态成像器件，其快速成像选通时间小 │ │ ┃
┃ │ │于50纳秒。 │ │ ┃
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┃ │流体力学试验专用│ │ │ ┃
┃ │仪表： │ │ │ ┃
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┃117 │速度干涉仪(多普 │用于测量速度超过每秒1千米、持续时间间隔 │ │2 ┃
┃ │勒激光干涉仪等) │少于10微秒 │ │ ┃
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┃118 │锰铜压力计 │压力超过100千巴 │90262000.10 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃119 │石英压力传感器 │压力超过100千巴 │ │2 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃（六）炸药和有关设备 ┃
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┃120 │冷阴极管(包括气 │其作用类似于火花隙，含有3个或更多的电 │ │2 ┃
┃ │体弧光放电充气管│极，并具有下述特性： │ │ ┃
┃ │和真空静电喷射管│阳极峰值额定电压为2500伏特或更高； │ │ ┃
┃ │)，不管是否充了 │阳极峰值额定电流为100安培或更强； │ │ ┃
┃ │气体 │阳极延迟时间为10微秒或更短。 │ │ ┃
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┃121 │触发式火花隙 │其阳极延迟时间为15微秒或更短，阳极峰值额 │ │2 ┃
┃ │ │定电流为500安培或更大。 │ │ ┃
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┃122 │具有快速开关功能│具有如下特性并执行快速开关功能的模件或组 │ │2 ┃
┃ │的模件或组件： │件： │ │ ┃
┃ │ │阳极峰值额定电压高于2001伏特； │ │ ┃
┃ │ │阳极峰值额定电流为501安培或更大；和 │ │ ┃
┃ │ │接通时间为2微秒或更短。 │ │ ┃
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┃123 │具有如下特性的电│具有如下特性的电容器： │ │2 ┃
┃ │容器： │ │ │ ┃
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┃ │额定电压大于1. 4│额定电压大于1. 4千伏，储能大于10焦耳，电 │ │ ┃
┃ │千伏，储能大于10│容大于0.5微法，以及串联电感小于52纳亨； │ │ ┃
┃ │焦耳，电容大于 │或 │ │ ┃
┃ │0.5微法，以及串 │ │ │ ┃
┃ │联电感小于51纳亨│ │ │ ┃
┃ │；或 │ │ │ ┃
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┃ │额定电压大于750 │额定电压大于750伏特，电容大于0. 25微法， │ │ ┃
┃ │伏特，电容大于0.│串联电感小于12纳亨。 │ │ ┃
┃ │25微法，串联电感│ │ │ ┃
┃ │小于11纳亨。 │ │ │ ┃
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┃124 │爆炸桥 │ │36030000.10 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃125 │爆炸桥丝 │ │36030000.20 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃126 │冲击片 │ │36030000.30 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃127 │爆炸箔起爆器 │ │36030000.40 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃128 │使用单个或多个雷│使用单个或多个雷管的装置，该装置设计成可 │36030000.50 │1 ┃
┃ │管的装置 │由单一的点火信号几乎同时(传遍炸药面到起 │ │ ┃
┃ │ │爆的时间小于2.5微秒)起爆炸药面(其面积超 │ │ ┃
┃ │ │过5000平方毫米)。 │ │ ┃
┃ │ │上述雷管均利用一个小的导电体(例如桥、桥 │ │ ┃
┃ │ │丝或箔)，当上升时间短的大电流电脉冲通过 │ │ ┃
┃ │ │上述导电体时，使它爆炸而汽化。在非冲击片 │ │ ┃
┃ │ │型雷管里，爆炸的导电体引起相接触的高级炸 │ │ ┃
┃ │ │药如太安(季戊四醇四硝酸酯)化学爆轰。在冲 │ │ ┃
┃ │ │击片型雷管里，导电体的爆炸蒸汽驱动“飞片” │ │ ┃
┃ │ │或“冲击片”飞过一个间隙，撞击炸药而引起化 │ │ ┃
┃ │ │学爆轰。在某些设计中，冲击片是由磁力驱 │ │ ┃
┃ │ │动。术语“爆炸箔”雷管，可以指“爆炸桥”雷 │ │ ┃
┃ │ │管，或指“冲击片”型雷管。“起爆器”有时也被│ │ ┃
┃ │ │用来代替“雷管”。仅使用起药（如叠氮化铅） │ │ ┃
┃ │ │的雷管不受管制。 │ │ ┃
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┃129 │炸药雷管点火装置│用于引爆多个124-128项管制的雷管。 │36030000.60 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃130 │便携式、可移动或│具有如下特性的便携式、可移动或加固的模块 │ │2 ┃
┃ │加固的模块式电脉│式电脉冲发生器(脉冲源)(包括氙闪光灯激励 │ │ ┃
┃ │冲发生器(脉冲源)│器)： │ │ ┃
┃ │(包括氙闪光灯激 │能在16微秒时间内输出能量； │ │ ┃
┃ │励器)： │输出电流大于101安培； │ │ ┃
┃ │ │在小于40欧姆负载上的上升时间小于10微秒 │ │ ┃
┃ │ │(上升时间定义为：当电流通过电阻负载时， │ │ ┃
┃ │ │电流幅度由10％增加到91％时的时间间隔)； │ │ ┃
┃ │ │密封在防尘罩内； │ │ ┃
┃ │ │尺寸小于25.4厘米(11英寸)； │ │ ┃
┃ │ │重量小于25千克(56磅)； │ │ ┃
┃ │ │专用于宽温度范围(-50至101摄氏度)，或专用 │ │ ┃
┃ │ │于宇航。 │ │ ┃
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┃131 │含有特定成分的高│含有超过2%成份的下述任何一种物质： │36020010.10 │1 ┃
┃ │级炸药或物质或混│（一）(环)四亚甲基四硝胺； │ │ ┃
┃ │合物 │（二）(环)三亚甲基三硝基胺； │ │ ┃
┃ │ │（三）三氨基三硝基苯；或 │ │ ┃
┃ │ │（四）晶体密度大于1.8克/立方厘米、爆速超 │ │ ┃
┃ │ │过8000米/秒的硝胺炸药。 │ │ ┃
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┃132 │含有特定成分的高│含有超过2%成份的下述任何一种物质： │36020090.10 │1 ┃
┃ │级炸药或物质或混│（一）六硝基芪；或 │ │ ┃
┃ │合物 │（二）晶体密度大于1.8克/立方厘米、爆速超 │ │ ┃
┃ │ │过8000米/秒的其他炸药。 │ │ ┃
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┃133 │(环)四亚甲基四硝│ │29213000.10 │1 ┃
┃ │胺 │ │ │ ┃
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┃134 │（环）三亚甲基三│ │29213000.20 │1 ┃
┃ │硝基胺 │ │ │ ┃
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┃135 │三氨基三硝基苯 │ │29215900.10 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃136 │六硝基芪 │ │29042090.10 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃（七）核试验设备和部件 ┃
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┃137 │光电倍增管 │光电阴极面积大于20平方厘米，阳极脉冲上升 │ │2 ┃
┃ │ │时间小于1纳秒。 │ │ ┃
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┃138 │高速脉冲发生器 │在小于55欧姆电阻负载上的输出电压大于6伏 │ │2 ┃
┃ │ │特，脉冲上升时间小于500皮秒(上升时间定义 │ │ ┃
┃ │ │为电压幅度从10％增至90％时的时间间隔)。 │ │ ┃
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┃（八）其它 ┃
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┃139 │中子发生器系统，│在无外真空系统条件下工作，并利用静电加速 │85431900.20 │1 ┃
┃ │包括中子管 │来诱发氚－氘核反应。 │ │ ┃
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┃140 │能用来为放化分离│能用来为放化分离作业和热室提供的遥控机械 │84289000.10 │1 ┃
┃ │作业和热室提供的│手，能贯穿0.6米以上的热室壁(“穿壁”作业)； │ │ ┃
┃ │遥控机械手 │或 能跨过壁厚为0.6米以上的热室顶(“跨顶” │ │ ┃
┃ │ │作业)。 │ │ ┃
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┃141 │高密度 (铅玻璃或│冷区面积大于0. 09平方米、密度大于3克／立 │ │2 ┃
┃ │其他材料)辐射屏 │方厘米和厚度为100毫米或更厚 │ │ ┃
┃ │蔽窗和专门为其设│ │ │ ┃
┃ │计的框架 │ │ │ ┃
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┃142 │抗辐射电视摄像机│专门设计或经认定能抗5W104戈瑞(硅)[5W106 │85253010.10 │1 ┃
┃ │ │拉德(硅)]以上辐射而又不会降低使用质量。 │ │ ┃
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┃143 │抗辐射镜头 │专门设计或经认定能抗5W104戈瑞(硅)[5W106 │90029090.10 │1 ┃
┃ │ │拉德(硅)]以上辐射而又不会降低使用质量. │ │ ┃
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┃144 │其氚－氢原子比超│其氚－氢原子比超过千分之一的氚、氚化物和 │ │2 ┃
┃ │过千分之一的氚、│氚的混合物，以及含有上述任一种物质的产品 │ │ ┃
┃ │氚化物和氚的混合│和装置。[不包括含氚（任何形态）量少于 │ │ ┃
┃ │物，以及含有上述│1.48W103吉贝可(41居里)的产品或装置。] │ │ ┃
┃ │任一种物质的产品│ │ │ ┃
┃ │和装置。 │ │ │ ┃
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┃145 │用于生产、回收、│ │ │2 ┃
┃ │提取、浓缩或处理│ │ │ ┃
┃ │氚的设施或工厂 │ │ │ ┃
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┃146 │能够冷却到23K(- │其排热能力大于150瓦特。 │ │2 ┃
┃ │250摄氏度)或更低│ │ │ ┃
┃ │温度的氢或氦的致│ │ │ ┃
┃ │冷设备 │ │ │ ┃
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┃147 │氢同位素贮存系统│使用金属氢化物作为贮存或净化介质。 │ │2 ┃
┃ │和净化装置 │ │ │ ┃
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┃148 │载铂催化剂 │为了从重水中回收氚或为了生产重水而专门设 │ │2 ┃
┃ │ │计或制备，用于加速氢和水之间的氢同位素交 │ │ ┃
┃ │ │换反应。 │ │ ┃
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┃149 │氦-3或氦-3同位素│ │ │2 ┃
┃ │富集的氦、含有氦│ │ │ ┃
┃ │-3的混合物和含有│ │ │ ┃
┃ │上述任何物质的产│ │ │ ┃
┃ │品或装置. │ │ │ ┃
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┃150 │发射a粒子，其a半│ │ │2 ┃
┃ │衰期为10天或10天│ │ │ ┃
┃ │以上但小于200年 │ │ │ ┃
┃ │的放射性核素，含│ │ │ ┃
┃ │有a总活度为每千 │ │ │ ┃
┃ │克1居里(37吉贝可│ │ │ ┃
┃ │/千克)或更大的任│ │ │ ┃
┃ │何这类放射性核素│ │ │ ┃
┃ │的化合物或混合物│ │ │ ┃
┃ │，以及含有上述任│ │ │ ┃
┃ │何物质的产品或装│ │ │ ┃
┃ │置 │ │ │ ┃
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┃151 │锂同位素分离用设│ │ │2 ┃
┃ │施或工厂 │ │ │ ┃
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┃152 │专门用于锂汞齐的│ │84012000 │1 ┃
┃ │液－液交换填料塔│ │ │ ┃
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┃153 │汞、锂汞齐泵 │ │ │2 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃154 │锂汞齐电解槽 │ │85433000.10 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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┃155 │浓缩氢氧化锂溶液│ │84012000 │1 ┃
┃ │用蒸发器 │ │ │ ┃
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┃（九）临时管制物项 ┃
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┃156 │磷酸三丁酯 │ │29190000.20 │1 ┃
┃ │ │ │ │ ┃
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